电子束蒸发仪可蒸发高纯与难熔材料，包括高熔点金属与非金属材料；四个可旋转坩埚，可制备多层薄膜；主要用于制备各种光学薄膜、介质薄膜与电极薄膜材料等。
镀膜
样品镀膜
电子束蒸发仪可蒸发高纯与难熔材料，包括高熔点金属与非金属材料；四个可旋转坩埚，可制备多层薄膜；主要用于制备各种光学薄膜、介质薄膜与电极薄膜材料等。主要用于制备纳
MJB4型号对准接触式紫外光刻机适用于所有标准化的光刻应用。该设备稳定性、重复性高，可加工微细尺寸图形。单面曝光
该设备采用计算机程序控制，工艺过程可以通过程序设定，自动完成复杂工艺，可以刻蚀Si、SiO2、SiNx、金属等材料。
磁控溅射仪配备有四个独立、可自动匹配的射频电源，可制备各种金属与非金属薄膜材料，并可实现多靶共溅射制备合金薄膜；配有氧气、氮气两路反应气体，可进行反应溅射制备氧
MA6型号双面对准接触式紫外光刻机适用于所有标准化的光刻应用。具备顶部和底部对准系统。双面曝光
金属、金属氧化物、介质层、有机聚合物及硅刻蚀。
各种金属薄膜的溅射沉积；各种金属、非金属化合物薄膜的溅射沉积；可共溅射沉积薄膜；可反应溅射沉积氮化物和氧化物薄膜；可溅射沉积强磁材料薄膜。可高温
纳米级、微米级尺寸的硅刻蚀。
用于Bosch工艺实现硅基材料的深刻蚀
