厂商及型号
美国Lesker公司KJLC LAB18
性能参数
载片：直径小于100mm(4吋)的各种基片；气体：Ar、O2、N2；样品台转速：最高转速30rmp;基片温度范围：室温至800 ℃；溅射阴极：三个2吋标准磁控靶，一个2吋增强靶；溅射电源：2个300wRF电源，2个直流电源（500w+1000w）
基片清洗电源：1个RF射频电源。
服务功能
各种金属薄膜的溅射沉积；各种金属、非金属化合物薄膜的溅射沉积；可共溅射沉积薄膜；可反应溅射沉积氮化物和氧化物薄膜；可溅射沉积强磁材料薄膜。可高温
