磁控溅射镀膜系统(Lab-18)

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厂商及型号

美国Lesker公司KJLC LAB18

性能参数

载片:直径小于100mm(4吋)的各种基片;气体:Ar、O2、N2;样品台转速:最高转速30rmp;基片温度范围:室温至800 ℃;溅射阴极:三个2吋标准磁控靶,一个2吋增强靶;溅射电源:2个300wRF电源,2个直流电源(500w+1000w) 基片清洗电源:1个RF射频电源。

服务功能

各种金属薄膜的溅射沉积;各种金属、非金属化合物薄膜的溅射沉积;可共溅射沉积薄膜;可反应溅射沉积氮化物和氧化物薄膜;可溅射沉积强磁材料薄膜。可高温