利用快速退火实现合金、注入激活、硅化物形成、氧化层生长等多种功能
对注入掺杂样品进行快速退火
可在真空、惰性气体氛围下高温退火
金属欧姆接触快速退火，浅结注入激活
外延片1200℃以下快速退火，6英寸样品架
运用主动防御的网络安全方法研制和开发网络陷阱和诱骗系统
高、低温、震动实验
硅片清洗（4"）
光刻胶去除，扫底膜
石英管道清洗
高低温环境模拟
可提供从直流到46GHz的高性能基本频率测量；带有功率测量能力以维持电信维护应用
