电感耦合等离子体刻蚀机

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厂商及型号

DSE200

性能参数

ICP等离子体源(13.56MHz,3000W) LF低频功率源(430KMHz,200W) 5路气体:C4F8,He,SF6,O2,Ar,N2)

服务功能

用于Bosch工艺实现硅基材料的深刻蚀