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多功能溅射系统

设备 实验室常用设备

用于金属和氧化物薄膜的制备
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磁控溅射仪

设备 实验室常用设备

可制备最大为100X500 mm的Ni/Ti多层膜，用于中子光学器件的研制
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磁控溅射仪

设备 实验室常用设备

制备磁隧道结等多层膜样品
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反应离子刻蚀系统

设备 实验室常用设备

刻蚀氧化硅等材料
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离子溅射仪

设备 实验室常用设备

用于SEM样品表面导电层蒸镀
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磁控溅射仪

设备 实验室常用设备

1、溅射薄膜均匀度：5%；2、Deposition Chamber压强：4.4×10-6Pa；3、Preparation chamber压强：6.7×10-4P
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冷冻研磨机

设备 实验室常用设备

坚硬样品快速粉碎
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光刻机

设备 实验室常用设备

工艺加工
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光刻机

设备 实验室常用设备

工艺加工
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高精度研磨机

设备 实验室常用设备

工艺加工
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反应离子刻蚀机

设备 实验室常用设备

工艺加工
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多靶溅射台

设备 实验室常用设备

工艺加工
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