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适用φ100mm以下(最小尺寸为5×5mm)，厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光；采用高均匀性的多点光源曝光头，使曝光分辨率大为提高；套刻精度高、速度快；可靠性高；特设“碎片”处理功能
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