金属种类：Au、Pt、Ti、Ni、Ge、Al、V等
2/4英寸硅片，蒸发金属
百纳米电子束曝光
各种光学光刻模板的制备; 各种碎片、50 mm及100 mm基片微纳米图案的直写，最小线宽<10nm
低能慢正电子束流系统，主要用于薄膜材料中空位型缺陷的表征，包括空位类型、空位浓度、缺陷尺寸等参数的分析。
用于微纳器件的图形化工艺以及掩模版的制作
高精度电子束曝光
微量样品溶液进行快速冻干保存
生物活性物质低温下的浓缩干燥
Si3N4、多晶硅成膜（4"）
SiO2（TEOS,LTO）、高压氧化、多晶硅成膜（4"）
干氧/湿氧氧化，退火，合金（4"）
