磁控溅射仪

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厂商及型号

MPS-4000-HC7

性能参数

三室多功能磁控溅射仪,主室本底真空优于8.3×10-8Pa,工作真空2×10-7Pa、衬底工作温度 RT-600℃、7个磁控溅射靶枪、氧化室本底真空1.2×10-6Pa、衬底工作温度 LN2-RT、1个磁控溅射靶枪、Ar,O2,N2三路供气、预备室本底真空1.2×10-6Pa、四片基片架、反溅射衬底清洁

服务功能

制备磁隧道结等多层膜样品