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扩散炉（高温扩散炉）

设备 实验室常用设备

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扩散炉（PECVD）

设备 实验室常用设备

生长SiNx和SiO介质，做钝化层等
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扩散炉（lpcvd）

设备 实验室常用设备

Si3N4、多晶硅成膜（4"）
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扩散炉

设备 实验室常用设备

SiO2（TEOS，LTO）、高压氧化、多晶硅成膜（4"）
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扩散炉（平板CVD炉）

设备 实验室常用设备

干氧/湿氧氧化，退火，合金（4"）
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扩散炉（高温扩散炉）

设备 实验室常用设备

干氧/湿氧氧化，退火，合金（3"）
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扩散炉（PECVD）

设备 实验室常用设备

生长SiNx和SiO介质，做钝化层等
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双面光刻机

设备 实验室常用设备

硅片等光刻
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硅深刻蚀系统

设备 实验室常用设备

硅深刻蚀
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RIE刻蚀机

设备 实验室常用设备

多晶硅、Si3N4干法
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溅射设备

设备 实验室常用设备

金属成膜（4"）
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JBX5000LS电子束光刻系统

设备 实验室常用设备

可接收百纳米级以上微纳米结构图形加工技术服务和科研实验工作
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