电子束曝光,微加工
工艺加工
高精度电子束曝光
制备掩模版
纳米尺度集成电路研制及纳米加工技术服务(主要用于联合开展的科研课题研究)
高性能数值模拟和精细实验相结合,在细致了解蒸气粒子运动轨迹的基础上,设计和优化薄膜沉积工艺。循此思路,我们首先精心研制了多源电子束物理气相沉积系统(IMCAS-
根据需求匹配
用于定义CMOS工艺90nm以下的图形
蒸发Au,Pt,Al,Ti,Ni等介质;
沉积各种高熔点金属及氧化物
采用电子束直接曝光的方法,制作纳米图形结构(最小线宽为8nm)。用于各种微纳器件与纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具,也可用于直