厂商及型号
IMCAS-MEBPVD
性能参数
系统由真空和喷流、蒸发和控制、运动和加热、飞行时间质谱仪、IMCAS-3R-PVD软件等5部分组成。1、极限真空压力4.6×10-5Pa，工作真空压力优于3.0×10-3Pa；2、3支电子枪同时工作时相互无电磁干扰，控制精度为0.2?/s；3、自主研制的新型真空辐射加热器可将基片表面温度加热到1200K
服务功能
高性能数值模拟和精细实验相结合，在细致了解蒸气粒子运动轨迹的基础上，设计和优化薄膜沉积工艺。循此思路，我们首先精心研制了多源电子束物理气相沉积系统（IMCAS-MEBPVD）。电子束共沉积制备大面积金属或陶瓷膜，可同时沉积4个组元，每一个过程可最多沉积7种组分
