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高密度等离子体增强化学气相沉积设备(ICP-CVD)

设备 实验室常用设备

可制备高质量、低应力的氧化硅、氮化硅及非晶硅薄膜。
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绘图仪

设备 实验室常用设备

绘制工程图纸
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等离子体辅助热丝化学气相沉积系统

设备 实验室常用设备

本系统包括频率可调至甚高频（VHF）的等离子体辅助沉积，用于沉积硅异质结太阳电池表面的SiON:H或SiO:H减反射涂层和p型微晶硅发射极；以及热丝CVD沉积系
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等离子增强气相沉积

设备 实验室常用设备

用于沉积氧化硅等
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多腔室等离子体增强化学气相沉积系统

设备 实验室常用设备

用于生长硅基薄膜，包括本征硅薄膜，N型、P型掺杂硅薄膜及氮化硅薄膜
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等离子体辅助热丝化学气相沉积系统

设备 实验室常用设备

薄膜生长
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蒸发台

设备 实验室常用设备

蒸发Au，Pt，Al，Ti，Ni等介质
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磨抛机组

设备 实验室常用设备

用于后道工艺的芯片减薄
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ITO蒸发

设备 实验室常用设备

蒸镀ITO材料
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蒸发台

设备 实验室常用设备

各种金属蒸发
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蒸发台

设备 实验室常用设备

蒸发Au，Pt，Al，Ti，Ni等介质
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磨抛机组

设备 实验室常用设备

用于后道工艺的芯片减薄
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