6300电子束曝光设备(纳米区域中心)

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厂商及型号

日本电子JBX-6300FS

性能参数

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服务功能

采用电子束直接曝光的方法,制作纳米图形结构(最小线宽为8nm)。用于各种微纳器件与纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具,也可用于直写高精度的光刻模板。如可用于制作下列器件与结构:微纳电子器件,光电子器件,生物传感器,微纳机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件,低维材料输运性质测量的纳米电极,光子晶体与左手材料等