涂胶、烘片、显影（4"）
用于光刻胶的涂覆以及显影
主要用于聚合物或光刻胶薄膜的制备，可通过程序，实现对旋涂层的厚度以及均匀性的控制，达到所需涂布效果，是进行器件所需微纳结构制备的关键设备。
该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用
清洗
匀胶
纳米科技研究和材料合成；大气研究和环境监测；燃烧和发动机排气研究；室内空气质量检测；成核研究/凝结研究；吸入毒理学研究
面向全国服务的亚微米级光掩模版制造
面向全国服务的微米级光掩模版制造
蒸镀各种金属材料
纳米量级图形曝光
各种金属蒸发
