涂覆光刻胶
去光刻胶
紫外显影
刻蚀（4"）
涂胶、烘片、显影（4"）
用于光刻胶的涂覆以及显影
主要用于聚合物或光刻胶薄膜的制备，可通过程序，实现对旋涂层的厚度以及均匀性的控制，达到所需涂布效果，是进行器件所需微纳结构制备的关键设备。
该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用
清洗
匀胶
