涂胶显影机

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厂商及型号

KS-C200-4SPIN

性能参数

1.涂胶均匀性:(膜厚: 3500?)(测量49点) a) 同一片晶片 3δ≦30? b) 晶片之间 3δ≦30?c) 3 days 3δ≦30?2.显影均匀性:(一共测量6片晶圆,每片测量33点)a) 同一晶片 3δ≦25nmb) 晶片之间 3δ≦25nm c) 3天 3δ≦25nm3.热板均匀性:50.0 - 120.0℃ R≤1.0120.1 - 150.0℃ R≤1.5℃150.1 - 200.0℃ R≤2.0℃200.1 - 300.0℃ R≤3.0℃300.1 - 350.0℃ R≤5.0℃

服务功能

用于光刻胶的涂覆以及显影