植物样品的精细粉碎
将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上
金属电极制备
可用于制备单层或多层厚度可控的ZnO和ITO薄膜
金属、介质多层膜的溅射
三维立体结构的光刻胶喷涂
高温退火(4",300-600oC)
高温退火(4",600-1000oC)
快速退火,形成欧姆接触
电极合金