三靶磁控溅射仪

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厂商及型号

沈阳科晶自动化设备有限公司 //VTC-600-3HD

性能参数

极限真空度:< ?E-6mbar(配合本公司设备使用可达到?E-5mbar) 4、工作温度:室温-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度) 5、靶枪数量:3个 6、靶枪冷却方式:水冷 7、靶材尺寸:Φ2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 8、直流溅射功率:500W(可选) 9、射频溅射功率:300W/500W(可选) 10、载样台:Φ140mm 11、载样台转速:1-20rpm内可调 12、保护气体:Ar、N2等惰性气体 13、进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100 SCCM

服务功能

可用于制备单层或多层厚度可控的ZnO和ITO薄膜