扩散炉(PECVD)

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厂商及型号

NEXTRAL D200

性能参数

扩散炉的性能参数:厚度在1um以下;主要功能:生长SiNx和SiO介质,做钝化层等

服务功能

生长SiNx和SiO介质,做钝化层等