JBX5000LS电子束光刻系统

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厂商及型号

JBS5000LS

性能参数

主要应用于100-500纳米结构图形电子束直写光刻;曝光芯片尺寸:碎片及2-5英寸

服务功能

可接收百纳米级以上微纳米结构图形加工技术服务和科研实验工作