电子束曝光系统(EBL)

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厂商及型号

德国 Vistec-Raith公司Vistec EBPG5000plus ES

性能参数

图形发生器频率:25 MHz;束斑位置稳定性:< 50 nm/h;束流稳定性:<±0.5%/h;主场稳定性:< 40 nm (for 400 μm main field within 0.5 h);场畸变:<±15 nm(for 400 μm main field);分辨率:< 8 nm line width (@100kV);场拼接、套刻、直写精度:±15nm;

服务功能

各种光学光刻模板的制备; 各种碎片、50 mm及100 mm基片微纳米图案的直写,最小线宽<10nm