电子束曝光系统(纳米区域中心)(三室A)

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厂商及型号

MEBES 4700S

性能参数

曝光面积:144 mm×128mm,寻址范围 25-250nm,图形位置精度40nm,对准精度30nm,SPP条纹对接40 nm(地址≤125 nm)、50 nm(地址>125 nm),MPG条纹对接35nm,扫描线性度20nm,线宽控制50nm,线宽均匀度50nm,线边缘粗糙度40nm,PSM层到层定位精度(≤600 nm抗蚀剂)60nm,阵列定位精度0.15mm,增加的颗粒0.2每in.2≥500 nm,分辨率 250 nm。

服务功能

高精度电子束曝光