厂商及型号
MEBES 4700S
性能参数
曝光面积：144 mm×128mm，寻址范围 25－250nm，图形位置精度40nm，对准精度30nm，SPP条纹对接40 nm（地址≤125 nm）、50 nm（地址＞125 nm），MPG条纹对接35nm，扫描线性度20nm，线宽控制50nm，线宽均匀度50nm，线边缘粗糙度40nm，PSM层到层定位精度（≤600 nm抗蚀剂）60nm，阵列定位精度0.15mm，增加的颗粒0.2每in.2≥500 nm，分辨率 250 nm。
服务功能
高精度电子束曝光
