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MEBES4700S
性能参数
主要应用于微米级中间掩模版制造及复杂图形掩模版制造；最小线宽0.5微米；掩模版尺寸：2-5英寸；精度+-0.25微米
服务功能
面向全国服务的亚微米级光掩模版制造
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