MEBES4700S电子束曝光系统

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厂商及型号

MEBES4700S

性能参数

主要应用于微米级中间掩模版制造及复杂图形掩模版制造;最小线宽0.5微米;掩模版尺寸:2-5英寸;精度+-0.25微米

服务功能

面向全国服务的亚微米级光掩模版制造