成果 企业 设备 专家 政策 院所 资本
设备 / 实验室常用设备

等离子体辅助热丝化学气相沉积系统

浏览次数

493

收藏次数

0

接洽次数

0

厂商及型号

沈阳聚智真空设备有限公司 //JZPERS450III

性能参数

1） 腔室本底真空: 10-6 Pa。 2） 等离子体沉积衬底加热温度最高500oC，热丝温度最高可到2100oC。 3）热丝系统带双层夹壁水冷

服务功能

本系统包括频率可调至甚高频（VHF）的等离子体辅助沉积，用于沉积硅异质结太阳电池表面的SiON:H或SiO:H减反射涂层和p型微晶硅发射极；以及热丝CVD沉积系统，用于无损伤沉积硅异质结界面上的非晶硅钝化层。
提交需求
Copyright@2018-2022 中科智汇工场科创大数据平台