多腔室等离子体增强化学气相沉积系统

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厂商及型号

沈阳新蓝天真空技术有限公司//PECVD300

性能参数

⑥恒流控制精度:1%±1LSB;

服务功能

用于生长硅基薄膜,包括本征硅薄膜,N型、P型掺杂硅薄膜及氮化硅薄膜