在基底上或块状以及颗粒状材料表面沉积制备均匀可控厚度的纳米薄膜，可沉积氧化铝、氧化锌、贵金属Pt、Pd等材料，可用于太阳能电池领域、催化领域、材料包覆领域等。
Si3N4、SiO2成膜（4"）
半导体介质薄膜淀积
显微负压微吸吮施力
等离子体增强化学气相沉积设备。可以进行4英寸（4inch*9）以下各种规格衬底介质沉积工艺。
氮化硅,氧化硅淀积
等离子体增强化学气相沉积设备。可以进行4英寸（4inch*9）以下各种规格衬底介质沉积工艺
清洗
Au、Pt等薄膜沉积
