厂商及型号
Picosun SUNALE R-200
性能参数
（1）温度范围：RT～500℃，（2）网格夹持器：用于在多孔基片和3D部件上沉积薄膜，（3）样品厚度：样品厚度均匀性小于1%（4）基片尺寸与类型 50 – 200 mm/单片， 150mm多片/小批量 ，粉末与颗粒 ，多孔材料及高深宽比材料。（5）气动升降（手动装载）（6）前驱体 液态，固态，气态，臭氧，4根独立源管线，加载4个前驱体源。
服务功能
在基底上或块状以及颗粒状材料表面沉积制备均匀可控厚度的纳米薄膜，可沉积氧化铝、氧化锌、贵金属Pt、Pd等材料，可用于太阳能电池领域、催化领域、材料包覆领域等。
