PECVD 790+(四室)

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厂商及型号

790+

性能参数

介质种类:SiO2,SiN;沉积速率:200~400?/min

服务功能

等离子体增强化学气相沉积设备。可以进行4英寸(4inch*9)以下各种规格衬底介质沉积工艺