项目简介
MOCVD （Metal Organic Chemical Vapor Deposition）材料生长装备，即金属有机物化学气相沉积设备，是化合物半导体外延材料研究和生产的关键设备，特别适合化物半导体功能结构材料的规模化生产，是其它半导体设备所无法替代的核心半导体装备，是当今世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段，是当今信息产业发展、国防高新技术突破不可缺少的战略性高技术半导体设备。我国“十一五”期间约需新增LED芯片产能96亿只/年，需新增MOCVD设备至少50台（按19片机规模），设备投入将达到8000- 10000万美元规模，甚至突破1亿美元。
半导体所在国家“863”计划等项目的支持下，系统地开展了MOCVD生长室、原料输运、电路控制等方面的设计与技术研究工作，成功研制出了具有自主知识产权的可一次生长3片2英寸外延片的研发型MOCVD设备样机，实现了衬底机座的公转/自传独立调节、具有低成本的新型原料配送结构等功能，并生产出性能优良的氮化镓基材料。
目前具有新颖结构设计、独立自主知识产权的新型6片型MOCVD系统原型机即将研制成功并投入使用，为国产化MOCVD设备产业化发展奠定了坚实基础。
应用领域
激光器、探测器、发光二极管、高效太阳能电池、光电阴极等光电子产业。
