成果 企业 设备 专家 政策 院所 资本
设备
筛选
海洋物探仪器 测量计量仪器 电子电工仪表 分析仪器 光学仪器 行业专用仪器 环境监测仪器 生命科学仪器 实验室常用设备 物性测试仪器 医学仪器 智能工业自动化

激光晶圆划片机

设备 实验室常用设备

可切割铜基板、铝基板、陶瓷、硅片等各种材料
收藏(0) 看过(484)

等离子体化学气相淀积台

设备 实验室常用设备

氮化硅薄膜沉积
收藏(0) 看过(506)

等离子体化学气相淀积

设备 实验室常用设备

工艺加工
收藏(0) 看过(535)

绘图仪

设备 实验室常用设备

设计绘图
收藏(0) 看过(527)

金属有机物气相外延系统

设备 实验室常用设备

材料生长
收藏(0) 看过(493)

金属有机物气相淀积系统

设备 实验室常用设备

材料生长
收藏(0) 看过(568)

金属有机化学气相沉积系统

设备 实验室常用设备

材料生长
收藏(0) 看过(575)

金属有机化合物气相外延

设备 实验室常用设备

材料生长
收藏(0) 看过(459)

HVPE氢化物气相外延设备

设备 实验室常用设备

材料生长
收藏(0) 看过(480)

Veeco MOCVD金属有机化合物气相外延系统

设备 实验室常用设备

外延生长氮化物材料及器件
收藏(0) 看过(439)

等离子体增强化学气相沉积系统(纳米区域中心)

设备 实验室常用设备

用于SiO2，SiNx，SiC和a-Si等薄膜的沉积，具有沉积温度低、薄膜致密性好、应力低和折射率可控等优点，广泛应用于半导体及光电器件领域。
收藏(0) 看过(588)

XeF2气相腐蚀设备（8寸）（十室A）

设备 实验室常用设备

多晶硅刻蚀
收藏(0) 看过(475)
相关推荐
Copyright@2018-2022 中科智汇工场科创大数据平台