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厂商及型号
英国牛津仪器 System100 PECVD System
性能参数
用于SiO1，SiNx，SiC和a-Si等薄膜的沉积，具有沉积温度低、薄膜致密性好、应力低和折射率可控等优点，广泛应用于半导体及光电器件领域。
服务功能
用于SiO2，SiNx，SiC和a-Si等薄膜的沉积，具有沉积温度低、薄膜致密性好、应力低和折射率可控等优点，广泛应用于半导体及光电器件领域。
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