等离子体增强化学气相沉积系统(纳米区域中心)

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厂商及型号

英国牛津仪器 System100 PECVD System

性能参数

用于SiO1,SiNx,SiC和a-Si等薄膜的沉积,具有沉积温度低、薄膜致密性好、应力低和折射率可控等优点,广泛应用于半导体及光电器件领域。

服务功能

用于SiO2,SiNx,SiC和a-Si等薄膜的沉积,具有沉积温度低、薄膜致密性好、应力低和折射率可控等优点,广泛应用于半导体及光电器件领域。