无掩模纳米光刻机

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项目简介

纳米无掩模光刻机系统是在科学院仪器研发项目,国家基金委重大研究计划和科技部863项目的支持下开展的研究,制备成功的样机系统于2009年初已通过同行专家的验收鉴定,设备经近一年运转,显示了很好的稳定性和高的费效比。

这套系统,在计算机的控制下可直接在光或热阻薄膜材料上形成数十纳米级任意形状的纳米构造,可获得导体,半导体和绝缘体的相应构造,可在制造纳米电极和纳米电路、生物医疗纳米器件、超大规模电路的纳米特征尺度掩膜等领域获得广泛应用。纳米无掩模光刻技术迎合了微纳器件制造的发展趋势,能克服目前的光刻技术由于掩模成本不断增加所带来的困难。

应用领域

1.科研单位和高校:目前建有纳米研究单元的科研单位和高校已有100多家。为了研究结构与器件性能间的关系,科研单位需要不断地改变结构,优化结构,如果使用常规模板制备工艺,成本昂贵。如果还需光刻,成本更高,且制备工期过长。所以成本低廉、时间周期短的无掩模纳米光刻技术是受欢迎的。

2.半导体微电子生产企业:该设备主要可用于在半导体产品成熟前,小批量产品试制和以研发新产品为主的企业生产小批量新产品等。

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