项目简介
研发用于高效、大功率电力电子器件的SiC同质外延材料生长技术。在4-6英寸SiC单晶衬底上生长出厚度超过20μm 的SiC厚膜,质量达到国际一流水平。实现20μm SiC厚膜产业化,满足我国SiC器件产业需求。
应用领域
SiC器件产业
项目简介
研发用于高效、大功率电力电子器件的SiC同质外延材料生长技术。在4-6英寸SiC单晶衬底上生长出厚度超过20μm 的SiC厚膜,质量达到国际一流水平。实现20μm SiC厚膜产业化,满足我国SiC器件产业需求。
应用领域
SiC器件产业