项目简介
项目是研制一种基于基于多片高速存储器并行处理的高速、大容量DMD图像显示控制系统。实现一套从图形输入、大容量存储、到高速传输显示的DMD产品。DMD成像控制系统关键技术是图像数据的大容量存储，图像高速翻转。创新点：
1）多片高速存储芯片颗粒存储，提升存储容量；
2）并行处理，提高数据存取速率；
3) PC端通讯兼容多种接口，可扩展性强，可脱机工作。
研发团队是一支技术经验丰富、理论基础扎实的博士硕士组成的队伍，有物理学、电子学、光学等学科背景，可提供坚实的技术保障。已完成样机开发，存储容量可达到768GB，数据掉电不丢失，读取速率可满足20KHz稳定帧频，有效的填补了国内外该产品存储容量小的缺陷。后期将从扩大存储容量，提升速率方面优化完善。
本系统的技术改进已申请专利保护，专利名称《一种DMD系统及其存取方法》，专利号：201810789256.3，具有完全自主产权。
应用领域
DMD成像控制系统广泛应用于3D打印、芯片制造产业的光刻机、PCB制板产业的激光直接制网机、防伪印刷产业的激光防伪机、单像素成像研究等。但国内研发成品稀少，国外产品有禁售等阻碍，且现有产品不能满足所有用户需求，我们主要实现产品的独立自主研发，解决国内市场没有性能优异的DMD成像控制产品的问题及用户其他痛点问题：
1）PC端用户通信数据下行速率低，接口单一；
2）容量小，掉电丢失数据；
3）数据存取速率低，性能不稳定。
DMD系统在单像素研究领域，可以对图像进行光学调制，由单点传感器对ＤＭＤ 翻转结果测量，在 ＰＣ端进行图像的恢复。
DMD系统在光刻机领域，主要是投影作用。在曝光过程中，光束透射过画着线路图的掩模，将线路图成比例缩小后映射到附着光刻胶的硅片上，光刻胶被光线侵蚀掉，使用化学方法显影将暴露的硅片腐蚀掉，得到刻在硅片上的电路图。掩模则是由DMD投影实现。
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