杂质激活
高温退火(4",600-1000℃)
光刻胶去除
快速退火,形成欧姆接触
高温退火
利用快速退火实现合金、注入激活、硅化物形成、氧化层生长等多种功能
对注入掺杂样品进行快速退火
可在真空、惰性气体氛围下高温退火
金属欧姆接触快速退火,浅结注入激活
外延片1200℃以下快速退火,6英寸样品架
磁滞回线;热磁曲线