微电子技术发展过程中，光刻机是直接决定芯片先进工艺制程中最关键的设备，属于国家重大战略装备。光刻曝光光源一直是光刻分辨力不断提高的直接因素，目前国际主流应用、生命力较长的光刻光源是193nm ArF准分子激光系统，国际上仅有美国Cymer和日本Gigaphoton两家公司可以提供满足光刻需求的产品，尖端技术垄断在美、日等少数国家地区，并对中国实行严格禁运管控等。

2009年，国家部署实施“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项（简称“02专项“），将光刻机及关键部件作为核心任务实施，2009年开始立项启动ArF 曝光光源研制任务，以期尽快掌握并发展我国高性能准分子激光光源产品技术。02专项启动前，我国在光刻用准分子激光光源方面研究处于空白，在“20W 4kHz ArF曝光光源研发”任务支持下，项目团队突破了高重频、窄线宽、大能量等光刻用准分子激光的核心关键技术，于2013年底完成了国内第一台自主知识产权的90nm光刻机激光光源系统的研制，积累形成了大量可转化的技术成果，实现了我国高性能ArF 准分子激光系统从无到有的跨越式发展。在上述研发成果的基础上，2013年专项部署实施“40W 4kHz ArF 曝光光源产品开发”滚动项目，项目目标是面向65nm节点光刻机需求，研制65nm光刻机用曝光光源产品。02专项并于2016年将支持建立面向38nm节点的光刻光源技术储备项目。截至2015年，项目及后续滚动支持研发经费超过4.5亿元。

产品的研发将将聚焦高端光刻193nm和248nm的光源产品，同时向工业、医疗和科研等应用领域拓展延伸，开发系列准分子激光光源产品。

1. 核心产品——光刻光源产品及服务，公司将瞄准先进的193nm光源，形成自己的核心竞争力；此外，二手光源更换的需求及光源更新，也为后期市场开拓创造机会。同时为国内200mm生产线上KrF 248nm光刻机光源提高维护、翻新、替代等业务服务；待248nm 光源系统更加成熟和提高可靠性之后，在5年内推向全球市场，为相应的光刻机整机公司提供KrF248nm光源。

2. 增长业务——科研和工业领域的准分子激光器，非光刻用准分子激光器主要应用于医疗行业、科研和工业领域。在医疗手术领域使用最广泛的准分子激光器是准分子激光原地角膜消除术（LASIK）激光，医疗激光器首先需要政府的批准和相关资质，公司将在适当时机进入这个准分子激光器第二大市场。