黑硅技术

中国科学院微电子研究所   硅器件研发中心

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项目简介

公司创新地使用金属催化腐蚀方法来制备黑硅,具有成本低、反射率低、均匀性好、易于与传统晶体硅生产线兼容等特点,受到了产业界的极大青睐。已发展出成套的黑硅制备工艺和添加剂,形成自己的关键技术。可广泛地应用于光伏和光电子等领域,其市场规模每年有300亿元,随着清洁能源利用的规模扩大,其市场还在增加。目前已建成两条黑硅生产线,成功地通过中试生产。已形成一支20人的战斗力强的团队。

应用领域

应用于光的捕获。目前开发的技术,主要针对光伏产业中金刚线切割多晶硅片制绒难行业难题而开发的湿法黑硅技术。该黑硅技术可以推广到光电子行业(如CCD等)

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