项目简介
高能脉冲磁控溅射技术是利用较高的脉冲峰值功率和较低的脉冲占空比来产生高溅射金属离化率的一种磁控溅射技术。力学所引进德国huttinger电源，与等离子体淹没离子注入沉积（PIII&D）方法相结合，形成一种新颖的成膜过程与质量调控技术，是可应用于大型矩形靶的离化率可控磁控溅射新技术，填补了国内在该方向的研究空白。将高能冲击磁控溅射与高压脉冲偏压技术复合，利用其高离化率和淹没性的特点，通过成膜过程中入射粒子能量与分布的有效操控，实现高膜基结合力、高品质、高均匀性薄膜的制备。
应用领域
工模具高温涂层：汽车、航空航天、军事等先进制造行业应用 稀土铝耐蚀薄膜：NdFeB磁铁行业环保涂层应用 太阳能薄膜：光伏发电及新能源领域应用 生物工程薄膜：生物医用领域应用
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