朱效立

中国科学院微电子研究所

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  • 朱效立
  • 研究员
  • 北京市朝阳区北土城西路3号

简 历:

教育背景

2008.10—2010.12清华大学材料科学与工程系,博士后

2005.09—2008.07中国科学院微电子研究所,博士研究生

2002.09—2005.07北京工业大学激光工程研究院,硕士研究生

1995.09—1999.07兰州大学物理系,本科生

工作简历

2008.07—中国科学院微电子研究所,助理研究员、副研究员

社会任职: 研究方向:纳米加工与新器件集成技术,微纳光学元件,先进光刻技术 承担科研项目情况:

1、新型微纳光学元件制造技术,国家科技重大专项课题,2009-2011,负责人;

2、极紫外光刻掩模技术,国家科技重大专项课题,2009-2013年,骨干成员;

3、下一代193nm光子筛聚焦无掩模光刻关键技术,2009-2011,国家科技重大专项课题,骨干成员;

4、纳米尺度X射线光学元件设计、制作及应用,973课题,2007-2011,骨干成员。

代表论著:

1. ZHU Xiao-Li, XIE Chang-Qing, ZHANG Man-Hong et al, “Fabrication of 11-nm-Wide Silica-Like Lines Using X-Ray Diffraction Exposure”, CHIN. PHYS. LETT. Vol. 26, No. 8 (2009) 086803.

2. X. L. Zhu, S.B. Liu,B. Y. Man,C. Q. Xie,D. P. Chen,D. Q. Wang, T. C. Ye, M. Liu,“Analysis by Using X-Ray Photoelectron Spectroscopy for Polymethyl Methacrylate and Polytetrafluoroethylene etched by KrF Excimer Laser”,Applied Surface Science, 253 ,2007,P. 3122–3126;

3. Xiaoli Zhu, Changqing Xie, Tianchun Ye et al, “Fabrication of 200 nm period x-ray transmission gratings using electron beam lithography”. Proc. of SPIE, Vol. 6832, 2007, 68320V;

4. 朱效立,马杰,谢常青等. 3333 lp/mm X射线透射光栅的研制. 光学学报, 2008, 28(6): 1026-1030.

5. 朱效立,谢常青,赵珉等.电子束光刻制备5000线/毫米光栅掩模关键技术研究. 微细加工技术, 2008(8), 4: 4-13.2朱效立,马杰,曹磊峰等. 高线密度X射线透射光栅的制作工艺研究. 半导体学报, 2007, 28(12);

6. Min Zhao,XiaoLi Zhu,Baoqin Chen et al. Design, fabrication, and test of soft x-ray sinusoidal transmission grating. Optical Engineering, 2008, 47(5):058001.

7. Changqing Xie, Xiaoli Zhu, Lina Shi, and Ming Liu, “Spiral photon sieves apodized by digital prolate spheroidal window for the generation of hard-x-ray vortex”, OPTICS LETTERS, Vol. 35(11) 2010 , 1765.

专利申请: 获奖及荣誉:

2010年北京市科技进步一等奖(排名第8)