- 朱效立
- 研究员
- 北京市朝阳区北土城西路3号
简 历：
教育背景
2008.10—2010.12清华大学材料科学与工程系，博士后
2005.09—2008.07中国科学院微电子研究所，博士研究生
2002.09—2005.07北京工业大学激光工程研究院，硕士研究生
1995.09—1999.07兰州大学物理系，本科生
工作简历
2008.07—中国科学院微电子研究所，助理研究员、副研究员
社会任职： 研究方向：纳米加工与新器件集成技术，微纳光学元件，先进光刻技术 承担科研项目情况：
1、新型微纳光学元件制造技术，国家科技重大专项课题，2009-2011，负责人；
2、极紫外光刻掩模技术，国家科技重大专项课题，2009-2013年，骨干成员；
3、下一代193nm光子筛聚焦无掩模光刻关键技术，2009-2011，国家科技重大专项课题，骨干成员；
4、纳米尺度X射线光学元件设计、制作及应用，973课题，2007-2011，骨干成员。
代表论著：
1. ZHU Xiao-Li, XIE Chang-Qing, ZHANG Man-Hong et al, “Fabrication of 11-nm-Wide Silica-Like Lines Using X-Ray Diffraction Exposure”, CHIN. PHYS. LETT. Vol. 26, No. 8 (2009) 086803.
2. X. L. Zhu, S.B. Liu，B. Y. Man，C. Q. Xie，D. P. Chen，D. Q. Wang, T. C. Ye, M. Liu，“Analysis by Using X-Ray Photoelectron Spectroscopy for Polymethyl Methacrylate and Polytetrafluoroethylene etched by KrF Excimer Laser”，Applied Surface Science， 253 ，2007，P. 3122–3126；
3. Xiaoli Zhu, Changqing Xie, Tianchun Ye et al, “Fabrication of 200 nm period x-ray transmission gratings using electron beam lithography”. Proc. of SPIE, Vol. 6832, 2007, 68320V;
4. 朱效立,马杰,谢常青等. 3333 lp/mm X射线透射光栅的研制. 光学学报, 2008, 28(6): 1026-1030.
5. 朱效立,谢常青,赵珉等.电子束光刻制备5000线/毫米光栅掩模关键技术研究. 微细加工技术, 2008(8), 4: 4-13.2朱效立,马杰,曹磊峰等. 高线密度X射线透射光栅的制作工艺研究. 半导体学报, 2007, 28(12)；
6. Min Zhao，XiaoLi Zhu，Baoqin Chen et al. Design, fabrication, and test of soft x-ray sinusoidal transmission grating. Optical Engineering, 2008, 47(5):058001.
7. Changqing Xie, Xiaoli Zhu, Lina Shi, and Ming Liu, “Spiral photon sieves apodized by digital prolate spheroidal window for the generation of hard-x-ray vortex”, OPTICS LETTERS, Vol. 35(11) 2010 , 1765.
专利申请： 获奖及荣誉：
2010年北京市科技进步一等奖（排名第8）
