- 韦亚一
- 课题负责人、02项目首席科学家
- 研究员
- 北京市朝阳区北土城西路3号
简 历：
教育背景：
1998毕业于德国马普固体所/德国斯图加特大学，获理学博士学位
1992毕业于中国科学院电子学研究所，获工学硕士学位
工作简历：
2013年 – 至今： 中国科学院微电子研究所研究员、博士生导师；国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备”首席科学家（沈阳芯源微电子设备公司）。
2009年 – 2013年： 美国格罗方德纽约研发中心光刻经理。
2007年 – 2008年： 美国安智公司新泽西研发中心，高级科学家(Senior Staff Scientist)。
2001年 – 2007年： 德国英飞凌公司美国纽约研发中心，高级工程师(Senior/Staff Engineer)。
1998年 – 2001年： 美国能源部橡树岭国家实验室，博士后
社会任职： 研究方向：193nm浸没式光刻工艺；光学邻近效应修正（optical proximity collection）；光刻材料研发和评估；匀胶显影设备（track）研发 承担科研项目情况： 代表论著：Advanced processes for 193nm immersion lithography， SPIE Press 2009 专利申请： 获奖及荣誉：
