傅剑宇

中国科学院微电子研究所

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  • 傅剑宇
  • 副研究员
  • 北京市朝阳区北土城西路3号

简 历:

教育背景

2005/9 - 2010/7,中国科学院微电子研究所,微电子与固体电子学,博士

2001/9 - 2005/7,四川大学,微电子学,学士

工作简历

2014/5 - 至今,中国科学院微电子研究所,智能感知中心,副研究员

2011/11 - 2014/5,重庆绿色智能技术研究院,电子信息技术研究所,副研究员

2010/9 - 2011/11,重庆大学,光电工程学院,讲师

社会任职: 研究方向:微机电系统:介质薄膜基础研究、非制冷红外成像芯片研究、太赫兹成像芯片研究等 承担科研项目情况:

1、国家自然科学基金青年项目,2017/01-2019/12,在研,主持。

2、国家863项目,2015/3-2018/3,在研,参与。

3、中国科学院“西部之光”计划西部博士项目,2012/1-2014/12,已结题,主持。

4、教育部科学技术研究重点项目(军工项目),2011/01-2013/12,已结题,参与。

代表论著:(1)Jianyu Fu*, Haiping Shang, Zhigang Li, Weibing Wang, Dapeng Chen, Thermal annealing effects on the stress stability in silicon dioxide films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition, Microsystem technologies, 2017, 23(7): 2753-2757.

(2)Jianyu Fu, Haiping Shang*, Haitao Shi, Zhigang Li, Yi Ou, Dapeng Chen, Qingchuan Zhang, Optical sensitivity non-uniformity analysis and optimization of a tilt optical readout focal plane array, Journal of Micromechanics and Microengineering, 2016, 26: 025001.

(3)Jianyu Fu, Haiping Shang*, Haitao Shi, Zhigang Li, Yi Ou, Dapeng Chen, Qingchuan Zhang, Design optimization and performance analysis of deformed optical readout focal plane array, Journal of Micromechanics and Microengineering, 2015, 25: 065012.

(4)Haiping Shang, Jianyu Fu*, Changqing Xie*, Zhigang Li, Dapeng Chen, Improving stress stability in low-pressure chemical vapor deposited silicon dioxide films by ion implantation, Thin Solid Films, 2016, 598: 103-108.

专利申请:

(1)傅剑宇,吴迪,周博天,袁野,严胡勇,丙酮气敏传感器及其制备方法,2017.4,中国,ZL201410621459.3

(2)傅剑宇,吴迪,王国胤,加速度开关及其控制方法,2016.8,中国,ZL201310162834.8

(3)傅剑宇,温志渝,陈李,李东玲,尚正国,一种微机械加速度开关,2013.12,中国,ZL201110188259.X

(4)傅剑宇,陈大鹏,景玉鹏,欧毅,叶甜春,一种制作纳米级图形的方法,2011.12,中国,ZL 200710177797.2

(5)傅剑宇,陈大鹏,景玉鹏,欧毅,叶甜春,基于场致电子发射原理的微尖端阵列器件及其制作方法,2010.9,中国,ZL 200710177795.3

获奖及荣誉: