- 傅剑宇
- 副研究员
- 北京市朝阳区北土城西路3号
简 历：
教育背景
2005/9 - 2010/7，中国科学院微电子研究所，微电子与固体电子学，博士
2001/9 - 2005/7，四川大学，微电子学，学士
工作简历
2014/5 - 至今，中国科学院微电子研究所，智能感知中心，副研究员
2011/11 - 2014/5，重庆绿色智能技术研究院，电子信息技术研究所，副研究员
2010/9 - 2011/11，重庆大学，光电工程学院，讲师
社会任职： 研究方向：微机电系统：介质薄膜基础研究、非制冷红外成像芯片研究、太赫兹成像芯片研究等 承担科研项目情况：
1、国家自然科学基金青年项目，2017/01-2019/12，在研，主持。
2、国家863项目，2015/3-2018/3，在研，参与。
3、中国科学院“西部之光”计划西部博士项目，2012/1-2014/12，已结题，主持。
4、教育部科学技术研究重点项目(军工项目)，2011/01-2013/12，已结题，参与。
代表论著：（1）Jianyu Fu*, Haiping Shang, Zhigang Li, Weibing Wang, Dapeng Chen, Thermal annealing effects on the stress stability in silicon dioxide films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition, Microsystem technologies, 2017, 23(7): 2753-2757.
（2）Jianyu Fu, Haiping Shang*, Haitao Shi, Zhigang Li, Yi Ou, Dapeng Chen, Qingchuan Zhang, Optical sensitivity non-uniformity analysis and optimization of a tilt optical readout focal plane array, Journal of Micromechanics and Microengineering, 2016, 26: 025001.
（3）Jianyu Fu, Haiping Shang*, Haitao Shi, Zhigang Li, Yi Ou, Dapeng Chen, Qingchuan Zhang, Design optimization and performance analysis of deformed optical readout focal plane array, Journal of Micromechanics and Microengineering, 2015, 25: 065012.
（4）Haiping Shang, Jianyu Fu*, Changqing Xie*, Zhigang Li, Dapeng Chen, Improving stress stability in low-pressure chemical vapor deposited silicon dioxide films by ion implantation, Thin Solid Films, 2016, 598: 103-108.
专利申请：
（1）傅剑宇，吴迪，周博天，袁野，严胡勇，丙酮气敏传感器及其制备方法，2017.4，中国，ZL201410621459.3
（2）傅剑宇，吴迪，王国胤，加速度开关及其控制方法，2016.8，中国，ZL201310162834.8
（3）傅剑宇，温志渝，陈李，李东玲，尚正国，一种微机械加速度开关，2013.12，中国，ZL201110188259.X
（4）傅剑宇，陈大鹏，景玉鹏，欧毅，叶甜春，一种制作纳米级图形的方法，2011.12，中国，ZL 200710177797.2
（5）傅剑宇，陈大鹏，景玉鹏，欧毅，叶甜春，基于场致电子发射原理的微尖端阵列器件及其制作方法，2010.9，中国，ZL 200710177795.3
获奖及荣誉：
