玻璃精密刻蚀系统

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厂商及型号

牛津仪器等离子技术公司 //PlasmaPro 100 Estrelas

性能参数

具备硅低温刻蚀工艺能力;可实现亚百纳米精细结构的刻蚀;可实现通孔刻蚀;刻蚀均匀性±<2.5%;常规BOSCH工艺刻蚀速率为2 到25 μm/min;硅/二氧化硅刻蚀选择比:>80:1,硅/光刻胶刻蚀选择比:>50:1,侧壁与底面夹角:90°±1°;侧壁与底面夹角在一定范围内可调。

服务功能

硅/氧化硅/玻璃刻蚀