半自动平行曝光机(九室A)

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厂商及型号

EVOLUTION Altix CA5

性能参数

用于图形发生,曝光工艺。光均匀性为±10%,最小线宽/线距可做到15/15um,底片与板对位精度≤±10μm。可做尺寸最小10”×10”,最大10”×16”;厚度30μm至4mm的基板曝光工艺

服务功能

基板曝光工艺