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厂商及型号
EVOLUTION Altix CA5
性能参数
用于图形发生，曝光工艺。光均匀性为±10%，最小线宽/线距可做到15/15um，底片与板对位精度≤±10μm。可做尺寸最小10”×10”，最大10”×16”；厚度30μm至4mm的基板曝光工艺
服务功能
基板曝光工艺
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