曝光机

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厂商及型号

德国Heidelberg公司 //DWL2000

性能参数

平台移动精度10nm,曝光激光强度110mW,最小线宽0.7um,套刻精度60nm,直写速度110mm2/min可应用于9寸及以下尺寸光刻版,直写图形可应用于8寸及以下样片

服务功能

光刻版曝光制备以及样片直写曝光