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德国Heidelberg公司 //DWL2000
性能参数
平台移动精度10nm，曝光激光强度110mW，最小线宽0.7um，套刻精度60nm，直写速度110mm2/min可应用于9寸及以下尺寸光刻版，直写图形可应用于8寸及以下样片
服务功能
光刻版曝光制备以及样片直写曝光
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