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超高真空离子束激光脉冲沉积系统
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厂商及型号
台湾铠柏科技 Combo－1220
性能参数
包括磁控溅射、离子束溅射与脉冲激光沉积三种不同工作模式的薄膜沉积方式以及离子刻蚀。具有超高真空的工作环境，高质量的薄膜沉积生长及生长过程的监控、控制及处理。
服务功能
包括磁控溅射、离子束溅射与脉冲激光沉积三种不同工作模式的薄膜沉积方式以及离子刻蚀。具有超高真空的工作环境，高质量的薄膜沉积生长及生长过程的监控、控制及处理。
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