扫描电子/聚焦离子束双束系统(SEM/FIB)

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厂商及型号

美国FEI公司NOVA 200 NanoLab

性能参数

分辨率:电子束 1.1 nm @ 15kv;离子束 7 nm @ 30kv;沉积材料:Pt,SiO2;最小沉积线宽(Pt):电子束 20nm;离子束 50nm;刻蚀材料:Si,SiO2等;最小刻蚀线宽(Si):<15nm;最大样品尺寸:2 英寸

服务功能

微纳米结构加工与表征,包括:(1)离子束刻蚀;(2)透射电镜样品制备;(2)离子束沉积金属Pt,绝缘体SiO2;(3)电子束沉积金属Pt;(4)电子束曝光;(5)扫描电子/离子显微镜等。EBL低电压测量