厂商及型号
美国FEI公司NOVA 200 NanoLab
性能参数
分辨率：电子束 1.1 nm @ 15kv；离子束 7 nm @ 30kv；沉积材料：Pt，SiO2；最小沉积线宽(Pt)：电子束 20nm；离子束 50nm；刻蚀材料：Si,SiO2等；最小刻蚀线宽(Si)：<15nm；最大样品尺寸：2 英寸
服务功能
微纳米结构加工与表征，包括：(1)离子束刻蚀；(2)透射电镜样品制备；(2)离子束沉积金属Pt,绝缘体SiO2；(3)电子束沉积金属Pt；(4)电子束曝光；(5)扫描电子/离子显微镜等。EBL低电压测量
