JBX6300FS电子束光刻系统

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厂商及型号

JBX6300FS

性能参数

主要应用于20-100纳米结构图形电子束直写光刻;曝光芯片尺寸:碎片及2-6英寸

服务功能

纳米尺度集成电路研制及纳米加工技术服务(主要用于联合开展的科研课题研究工作)