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设备 / 实验室常用设备

刻蚀机（反应离子）

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厂商及型号

R/B 4520

性能参数

片内均匀性：<±3％；线宽：0.5mm；刻蚀剖面陡峭度：85o

服务功能

SiO2干法刻蚀（4"）
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