成果 企业 设备 专家 政策 院所 资本
设备 / 实验室常用设备

光刻机

浏览次数

422

收藏次数

0

接洽次数

0

厂商及型号

PLA-501F

性能参数

分辨率：2mm；曝光均匀性：<±3%；对准精度：<±0.1mm；线宽均匀性：<2mm±0.2mm

服务功能

硅片的图形光刻（4"），机器的分辨率：2mm；曝光均匀性：<±3%；对准精度：<±0.1mm；线宽均匀性：<2mm±0.2mm
提交需求
Copyright@2018-2022 中科智汇工场科创大数据平台