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设备 / 实验室常用设备

四型分子束外延设备

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厂商及型号

四型

性能参数

外延室极限真空度：≤5×10-8Pa；预处理室极限真空度：≤5.0×10-7Pa；进样室极限真空度：≤6.7×10-7Pa；外延 室：Φ450；预处理室：Φ300×850；进样室：Φ150×250；沉积温度：800～1200℃；温度精度：±1℃；装片能力： 2”～4”，1～8片；分子束源炉：4～8个独立式束源炉，控温1300℃±1℃

服务功能

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