四型分子束外延设备

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厂商及型号

四型

性能参数

外延室极限真空度:≤5×10-8Pa;预处理室极限真空度:≤5.0×10-7Pa;进样室极限真空度:≤6.7×10-7Pa;外延 室:Φ450;预处理室:Φ300×850;进样室:Φ150×250;沉积温度:800~1200℃;温度精度:±1℃;装片能力: 2”~4”,1~8片;分子束源炉:4~8个独立式束源炉,控温1300℃±1℃

服务功能

材料生长